《以磁控濺鍍法製作之氧化銦鎵薄膜特性及其元件應用》哪裡下載？該論文是方昱叡於 107 年畢業於國立成功大學微電子工程研究所之碩士論文，以下為該論文詳細資料：
- 論文名稱：以磁控濺鍍法製作之氧化銦鎵薄膜特性及其元件應用
- 論文名稱(外文)：Investigation of Indium Gallium Oxide Thin Film Fabricated by RF Sputtering System and Their Applications
- 學校名稱：國立成功大學
- 系所名稱：微電子工程研究所
- 畢業學年度：107
- 學位類別：碩士
- 作者：方昱叡
- 指導教授：張守進 陳志方
- 碩士論文下載網址：https://hdl.handle.net/11296/345m49
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