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原子層沉積系統(ALD)設備簡介
www.tsri.org.tw
−機台型號：AixtronGenusStratagem200。−晶片尺寸：200mm。−八吋晶片載盤可提供6吋、4吋及破片晶片之製程。
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ALD 設備與產業展望
www.tiri.narl.org.tw
由柯志忠著作—自上世紀60年代發展以來，原子層沉積技術(atomiclayerdeposition,ALD)逐漸受到重視，尤其半導體製....
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ALD
www.appliedmaterials.c
ALD是当今最先进的平面器件及行业转向3D架构的关键推动因素。应用材料公司的ALD系统可在晶圆上面沉积各类氧化物、..
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【獨家】半導體機台採購低於市價、產地不清遭疑涉弊工研院
www.mirrormedia.mg
2022年7月9日—本刊接獲爆料，指財團法人工業技術研究院，在去年底以低於市場行情相當多的金額購入實驗用半導體機...
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天虹科技ALD設備獲晶電採用為台灣第一家被量產的 ...
ctee.com.tw
2021年8月2日—天虹科技成功開發「量產型」ALD薄膜製程設備，讓台灣半導體關鍵製程設備國產...此外，更搭配Skiwar(...
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台灣自製高階半導體設備里程碑儀科中心攜手天虹科技打造12吋 ...
www.narlabs.org.tw
2020年9月8日—國研院儀科中心自2004年起深耕發展ALD技術，因應不同製程需求開發各式ALD設備與製程驗證技術，累積...
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CN104911562A
patents.google.com
本发明的ALD机台腔体的净化方法，包括：提供晶圆，向所述机台腔体内通入六氯乙硅烷，在所述晶圆上进行原子层沉积...
延伸參考